清洗等离子及其用途

等离子清洗被广泛应用于对各种材料进行表面清洗，为后续加工做准备，如刷漆、涂覆和包覆封装等。

清洗流程（也叫作等离子刻蚀）可能包括氧气（空气）、氩气及任何其他满足表面需求的元素。等离子清洗是一种将高能量流引导至需要接受清洗的表面的方式。

等离子清洗通常用于在加工（如灌胶、印刷、涂覆和上漆等）之前制备表面。

在等离子清洗最基本的用途中，包括测量仪器的清洗，还有位于由有机污染物组成、会导致自发荧光和粘结垫环境中的基材的清洗。清洗等离子也适用于去除异质污染物，如矿物基和有机加工残留物。它还有助于在涂覆之前清洗部件，然后进行包覆封装以及超高压设备的超细等离子清洗。因此，清洗等离子适用于很多需要清洗表面的行业！

等离子清洗：等离子适用于为各种制造过程清洗和制备表面

等离子清洁适用于：

• 去除表面氧化
• 去除矿物油残留物的表面
• 制备弹性体、金属和塑料的表面
• 清洁陶瓷
• 消除对化学溶剂的需求
• 以超细级别清洗金属表面
• 去除有机污染物
• 玻璃产品（如眼科器材）的表面制备

等离子清洗的优势

在等离子清洗的诸多优势中，其中一个优势是，它不仅操作简便，而且是一种干燥、环保的技术，如不含有任何三氯乙烯。此外，操作成本较低，而且您将获得最高的清洗质量。它还通过提高粘附性增强粘结度。

等离子清洗可以通过物理消融轻松去除特定表面上的任何有机污染物，这需要使用氩等离子或氧气（空气）所引起的化学反应。该过程极其有助于清洗受溶剂清洗影响的表面，如其表面张力具有局限性。这些表面可以通过微通道或微孔进行清洗。

在材质表面使用清洗等离子的另一优势是，它将消除使用化学溶剂的需求，从而消除了存储和处置溶剂废物的需要。

该流程不像用于表面处理的传统方式一样严苛（了解此处的等离子处理基础知识），这意味着您能够清洗表面，而不失去在传统表面清洗方式中所损失的很多重要材质属性。这一流程也用于处理大量复杂表面，这些表面可能包括光纤、载玻片、金属表面（如金）、半导体和氧化物等。

视频：Tantec VacuTEC 腔体内的 GoPro